浸润式光刻机概念

浸润式光刻机是一种先进的光刻技术，它在光刻过程中使用液体介质来填充光刻模具和光刻目标物之间的空隙。

这种技术可以提供更高的分辨率和更好的图案质量，因为液体具有较高的折射率，可以减少光的散射。

此外，浸润式光刻机还可以减少光刻模具与目标物之间的接触力，从而减少机械应力对目标物的影响。这种技术在微电子制造和纳米加工领域具有广泛的应用前景。