国产90纳米光刻机真实现状是中国在半导体制造设备领域的重要突破，但与国际先进水平相比仍有一定差距。
国产90纳米光刻机由中国多家企业与科研机构共同研发，目前已经在一些领域实现商业化应用。这款光刻机的成功研发，标志着中国在半导体制造设备领域取得了重要进展，打破了国外的垄断局面，为中国的芯片制造提供了更多的选择。
然而，与国际先进水平相比，国产90纳米光刻机仍存在一定的技术差距。目前，全球最先进的光刻机已经达到了7纳米甚至5纳米的水平，而国产90纳米光刻机的技术水平还相对较低。此外，国产光刻机在生产效率、精度、稳定性等方面也有待提高。
1.中国在半导体制造设备领域的投入正在加大。据中国半导体行业协会统计，2019年，中国半导体设备市场规模达到1226亿元人民币，同比增长18.2%。
2.国产光刻机的研发得到了政府的大力支持。2014年，中国国务院发布了《国家集成电路产业发展推进纲要》，提出要大力发展集成电路产业，支持关键设备和材料的研发。
3.国产光刻机在某些领域的应用已经取得了突破。例如，中国的中芯国际已经成功使用国产90纳米光刻机生产了部分芯片。
总的来说，国产90纳米光刻机的研发是中国在半导体制造设备领域的一个重要突破，但要赶上国际先进水平，还需要不断的技术创新和努力。
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