载流子浓度是半导体材料中决定导电性能的关键参数,其核心特性及影响因素如下:
定义
每立方厘米半导体中载流子(电子或空穴)的数目,单位为原子/cm³。在 本征半导体 中,电子浓度与空穴浓度相等,该浓度即为载流子浓度。
类型区分
n型半导体 :多数载流子为电子,少数载流子为空穴;
p型半导体 :多数载流子为空穴,少数载流子为电子。
掺杂浓度
低浓度(>10¹⁶/cm³) :杂质几乎完全电离,载流子浓度与杂质浓度近似成反比,电阻率随浓度降低;
高浓度(≥10¹⁶/cm³) :杂质电离率下降,迁移率因散射效应显着降低,导致电阻率变化不再线性。
温度
低温时本征载流子浓度随温度升高而增加,迁移率下降;
高浓度杂质时,迁移率下降趋势平缓。
电化学法 (CSEP2200):通过电容-电压(C-V)测量技术自动测试载流子浓度分布;
Raman光谱法 :通过声子与载流子耦合特征峰位变化定量计算浓度,适用于10¹⁷-10²⁰ cm⁻³范围;
霍尔效应 :通过测量霍尔电压计算载流子浓度和类型。
工艺控制 :通过控制三价/五价掺杂原子浓度调节载流子浓度,实现半导体性能优化(如热电材料);
器件设计 :载流子浓度直接影响半导体器件的导电性、迁移率等关键参数。
总结 :载流子浓度是半导体导电性的核心决定因素,其浓度、类型及分布需通过多种方法精确测量,并通过掺杂工艺进行调控以满足不同应用需求。